1974 micralign 100

IC造價實在太貴 原因出在製造過程 某些機器效率太低 (曝光機良率10%) 拖累整體效率
於是1967年，美國軍方提出 曝光機(Mask Aligner) 改進合約 

IC製造電路圖曝光：電路圖在光罩＋感光乳膠＋矽晶圓
此時的曝光機運作上有兩種，接觸式與漸進式。

各有問題 有待突破   

接觸式：感光乳膠接觸光罩mask  曝光次數增加，光罩損壞生產良率低，成本昂貴。是汙染問題
漸進式：光罩不和矽晶圓片直接接觸，光線散射效應，投影時邊緣變模糊，造成誤差。

老牌光學設備廠商 Perkin Elmer，接下改進合約。

Perkin Elmer改進方法：投影式曝光機　 

光罩＋感光乳膠＋矽晶圓

1974 Perkin Elmer 發表 micralign 100   
生產良率，從10%提高到了70%(7倍)。良率大幅提高，晶片價格應聲大跌。一口氣良率增加7倍 
1974年摩托羅拉的８位元ＣＰＵ　6800售價295美金，一年後。在MOS科技公司，使用Micralign 100。生產出MOS 6502　8位元ＣＰＵ，只賣25美金。(12倍)


1975 Mos 6508
1977 蘋果電腦發表 Apple2 (Cpu採用6502)  
1983 任天堂 紅白機 Family computetr (Cpu採用6502)