1974 micralign 100 -2

鏡面投影曝光設備的原型被認為是Perkin Elmer Inc.於1974年開發的半導體曝光設備。 PerkinElmer 開發的設備稱為 Micralign TM，最初的型號為 Micralign 100。 Micralign 100 的裝置概念如圖所示。

弧形曝光光束照射到光遮罩上後，透過根鏡照射到凹面鏡(主鏡：M3)上。從凹面鏡發出的光束投射到凸面鏡（副鏡：M4）上，再次被凹面鏡反射，然後透過平面鏡照射到晶圓上。在 20 世紀 70 年代，很難同步精確地掃描掩模和晶圓。因此，透過增加45°反射鏡，並繞著反射鏡陣列下方的軸旋轉掩模版和晶圓的位置和方向來實現同步掃描。兩個 45° 平面鏡使用折疊鏡塊整合在一起。另外，小凸面鏡的曲率設計為凹面鏡曲率的兩倍。考慮漸暈，數值孔徑限制在0.16以下。