鉅亨網編譯羅昀玫
《路透》週四 (23 日) 報導,因發熱問題,三星高頻寬記憶體 (HBM) 未能通過輝達 (MVDA-US)測試。
三位消息人士稱,自去年以來,三星一直在努力通過輝達對 HBM3 和 HBM3E 的測試。
消息人士透露,最近對三星 8 層和 12 層 HBM3E 晶片的失敗測試結果已於 4 月公布。 目前尚不清楚這些問題是否可以輕易解決,但消息人士表示,未能滿足輝達要求增加了業界和投資者的擔憂,即三星可能會進一步落後於競爭對手 SK 海力士和美光 (MU-US)。三星聲明中表示,HBM 是一款訂製記憶體產品,需要根據客戶需求進行優化流程,並補充說,該公司正在通過與客戶的密切合作來優化其產品。它拒絕對特定客戶發表評論。
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