① 你封殺華為 我封殺蘋果
2023/07/31 習近平:科技設備國產化
封殺iphone
2023/09/07 WSJ:陸禁官員用iPhone 嚴防資料外洩不可在公務上使用蘋果裝置
②
使用方法:多重曝光 ( multiple patterning )
使用工具:DUV 曝光機
深紫外光(DUV)曝光機「Twinscan NXT:2000i」雖可打造 5 奈米或精製的 7 奈米晶片,卻必須大量使用多重曝光 ( multiple patterning ),這是一種影響良率及成本的昂貴技術。
③ 10奈米晶片,內部已高達80層
曝光一次 生產出一層 生產一層得花上兩天時間。 多重曝光 費工費時
① ② ③ ④ ⑤
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