2022-08-13 光罩護膜（pellicle）

 光罩護膜——提高半導體製程產量及良率的幕後幫手】
使用光罩護膜有兩種目的，一是增加晶片生產良率；二是減少光罩於使用時的清潔和檢驗。

ASML宣布同意將EUV光罩護膜組裝技術授權予日商三井化學公司，在未來將持續與合作夥伴共同開發下一代光罩護膜，持續改善EUV光罩護膜效能，以更趨優良的產品服務我們的客戶。

▍光罩護膜（Pellicle）是什麼？

光罩護膜是一塊薄膜展開在框架上，保護光罩避免微塵的污染，防止微塵或其他外在物質被刻印在晶圓上。使用光罩護膜最主要有兩種目的，其一為增加晶片生產良率，另一是減少光罩於使用時的清潔和檢驗，有效提高產量。