廖啟宏: 2015 林本堅(圖)

從1996年開始，逐漸出現無法突破的極限，從那時候開始，就有非常多業者投入157奈米波長的研究，但經過幾年下來，成效不佳，幾十億美元的研發費用就這樣蒸發。

2002年林本堅大膽提出浸潤式微影技術 (65奈米)
2003年台積電與荷蘭ＡＳＭＬ半導體設備公司共同研發的機台也順利問世

2004年 10月，美國《新聞週刊》才以「浸潤在水裡的晶片」為題，指出台積電利用浸潤式技術，晉升至一線晶片製造商行列，令台積電設計能力足夠和ＩＢＭ及英特爾等半導體廠商並駕齊驅。

2004年 11月，台積電正式啟用全世界第一台193奈米「浸潤式微影技術」(Immersion Lithography)機台，正式跨入65奈米線寬世代的生產。台積電在二○一二年前都將保有這項技術領先

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157奈米這波長很不好用。其中一個主要原因是這波長的穿透率很低，只有少數可用的介質是透明的，這波長一共有五個瓶頸需要突破：

(1)鏡頭的材料就是一個瓶頸。唯一有希望的介質是單結晶的二氟化鈣（CaF2）。可是要做出20–30公分大小的完美結晶非常困難。拉結晶要很有耐心，整個過程需要約90天。在這期間所需的溫度、拉速、震動、周遭的環境等都不能有任何變動。這麼長的學習週期，用數百個熔爐都無法改進學習的速度。

(2)感光物質的穿透率及耐蝕刻性，也令發展光阻的高手傷透腦筋。

(3)光罩的材料因二氟化鈣價錢太高，而且不耐用，只好用穿透率差的石英（quartz），對高準確度的成像有影響。

(4)在光罩的聚焦區以外的平面有一層透明的護膜，作用是擋開會附在光罩上產生影像瑕疵的微粒。在157奈米的波長發展不出既透明又能伸展的薄膜。用石英的硬片取代則產生無應力把硬片吸附在光罩上的難題。

(5)因為空氣中的氧氣會吸收157奈米的光，光經過的整個路徑必須只有氮氣，造成很多不便，會增加製造的成本，而且如果意外漏出太多氮氣會致命。

2002年2月，我受邀到SPIE 的「國際微影討論會」作個全會眾出席（Plenary）的演講，其中一個要點是微影技術的下一步應該怎麼走。

我分析了157奈米和13.4奈米，不認為這兩個技術能及時解決問題，讓摩爾定律按進度邁進。這是我在1987年之後，再次提出浸潤式的可能性，並發表了浸潤式設備及操作的示意圖。有些聽眾聽進去了，其他的聽眾覺得浸潤式還是一個冷門的技術。

當年的9月，有一個針對157奈米的技術研討會，主持人邀請我去講浸潤式微影。他可能屬於在2月時把我的演講聽進去的聽眾；事隔7個月，想多聽一點我的想法。那天因為是157奈米的研討會，大家認為我要講用浸潤式繼續推進157奈米。其實我在2月還沒有提到浸潤式以前，已經說157奈米很難了，把浸潤式加到157奈米，不是難上加難嗎？

在MIT林肯實驗室的兩位研究員M. Switkes 和M. Rothschild，在157奈米的浸潤式液體上作了很多研究，這些液體穿透率不高，又是油性，有些還會污染晶片。他們順便也量了水的折射率，得到1.46（這是當時的數據，後來他們小心再量測得到1.44），這是在193奈米波長的折射率。水在157奈米波長的折射率是量不出來的，因為不透光。

我看了1.46這數字很有感覺，因為水的折射率在一般的波長是1.3多。所以在一般波長下用水做浸潤式的介質只能改進百分之卅多，但若改成現在可用的最短波長193奈米，1.46的折射率特性，水能把解析度增加46％，這太好了。水又是半導體生產線上大量使用的液體，接受度不成問題。那兩位林肯實驗室的研究員沒有注意到水，可能因為他們專心想在157奈米上突破。

我算了一下，157奈米只比193奈米短23％，換句話說，只能把解析度提高23％，用193奈米加水可以提高46％，幾乎是兩倍。因為波長只在水中變短為132奈米。光在進入水前的波長是193奈米，可以避開所有157奈米的困難，能改進46％，又容易被半導體業接受，真是天造之合，是上帝給半導體業的奇妙安排。這就好像上帝使冰的密度比水低，讓冰浮在水面上而使下面的水不容易結冰，這個物理現象可以保護魚類，是祂給生物界的奇妙安排。

接著我在研討會發表用水配合193奈米，能比乾式的157奈米多增進一世代，而且比後者容易開發。結果全場轟動。我演講後，所有交談的時間大家都在討論這個題目。更震撼的是在2004年的2月，有數千人聚會的SPIE「國際微影談論會」—就是我在2002年提到浸潤式微影的研討會—其中有一個以157奈米為主題的會場，雖然有文章發表，却沒有聽眾。193奈米浸潤式微影的會場卻擠滿人。

雖千萬人，吾往矣！

轟動歸轟動，要說服曝光機台的廠商研發並量產浸潤式機台卻困難重重。問題出在全世界的研發方向都朝向157奈米，不但有很多廠商和研發單位投注到這波長，而且全球對157奈米的投資遠超過10億美元；單單一家曝光機台的廠商號稱已投資超過7億多美元。他們覺得我在攪局，並想說服我的老闆阻止我。幸虧蔣尚義老闆很有見識，也相信我的能力，並沒有採取行動。

我和組內的同仁必須寫好幾篇論文，從理論的觀點證明浸潤式微影的可行性及優勢，並駁斥一些錯誤的負面看法。我們也及早申請了應該申請的專利，並繼續在國際技術討論會發表論文。最重要的是必須說服廠商提供機台。

因此我常奔跑荷、德、美、日各地作技術和商業的交談。這樣辛苦耕耘了一年多，在2003年的10月，我們到荷蘭作技術討論時，愛斯摩爾公司（ASML）給我們看剛剛趕出來的第一片用浸潤式曝光機在光阻上的成像。當然皆大歡喜。接著台積電和愛斯摩爾兩個公司用很多年的苦功，把機台和製程研發到可以把浸潤式微影駕輕就熟地用在量產上。

45奈米是用浸潤式技術量產的第一代，接著在全球，40奈米、32奈米、28奈米、20奈米、16奈米、14奈米、10奈米、7奈米，都靠浸潤式的技術生產。到了2012年，台積電總收入的47％是用浸潤式技術生產的。當年台積電的總營收是170億美元。2016年的總營收是320億美元，浸潤式技術生產的比例想必比2012年的要高得多。2017年的第一季，愛斯摩爾的季收中，浸潤式的機台佔74 ％。我個人也因此得到公司內外的很多認可。這是上帝賜給我「眼睛未曾看見，耳朵未曾聽見，人心未曾想到的恩典」。