台積林本堅 獲選美工程院士

台積林本堅 獲選美工程院士

【經濟日報╱記者陳碧珠╱台北報導】2008.02.13 03:32 am

台積電微製像技術發展處資深處長林本堅昨（12）日獲選2008年美國國家工程學院院士，這是繼台積電董事長張忠謀、前技術長胡正明之後，第三位取得此一資格的台積電員工。

林本堅提出的193「浸潤式微影技術」（Im-mersion Lithography），是半導體產業的創舉，這項技術對半導體與台積電在65奈米以下先進製程，都有非常大的貢獻。

隨IC元件愈縮愈小，微影技術必須更細微精確，才能在先進製程中成功的將電路顯像在晶圓上。

微影技術方式，之前從436奈米波長、365奈米波長的0.35到0.5奈米製程技術，進展到248奈米波長、193奈米波長的0.25到0.1奈米製程技術。

林本堅在2002年發明浸潤式微影，又將193奈米波長透過水的折射，延長到32奈米；林本堅是在193奈米機台加入水為媒介，可得出更短的波長，讓台積電在2004年11月啟用全世界第一台193奈米「浸潤式微影技術」機台，從此跨入生產65奈米製程。

這項技術的突破，使台積電一下子跳過三個技術世代，也讓全世界半導體產業都將這個技術列為65奈米以下的主流。

今年65歲的林本堅，2003年曾獲得美國電機電子工程學會學士資格，這次更在2,200多個會員中，成為65名美國國家工程師院士之一。

【2008/02/13 經濟日報】